经《财经》记者综合调查，部分中芯国际现有客户也不太焦虑。一位芯片设计公司副总裁也表示，该公司有部分芯片一直由中芯国际代工，但他不担心中芯国际业务会就此停摆，理由主要是两方面： 一是由于美国商务部明确限制的是10纳米以下的技术和设备，也就意味着10纳米以上半导体制造所需设备和技术，美国公司还有机会通过申请许可证的模式继续向中芯国际供货。 其二，美国芯片公司高通也有相当一部分芯片由中芯国际代工。据他估计，高通电源管理芯片60%都由中芯国际代工，如果中芯国际就此停摆，高通最新的5纳米手机芯片出货短期也将受到影响，“相信高通也会积极促进许可证的发放。”他说。 但另一方面，中芯国际受限确实会加剧目前芯片产能吃紧的状况。上述芯片公司副总裁表示，A股上市公司里，兆易创新（603986.SSE）受影响较大。但同时，将会利好华虹国际半导体（01347.HK），以及国产设备与材料厂商。截至本文发稿，高通、兆易创新没有回应《财经》记者置评请求。 美国商务部这一制裁最直接影响的是中芯国际的先进制程研发。目前，中芯国际的制程推进到N+1（介于10纳米和7纳米之间），并已实现小批量产，预计2022年实现N+2量产，但由于EUV光刻机（极紫外光刻机）迟迟无法到位以及没有共同推进的大设计厂商，难以推进。
另外，虽然EUV光刻机的生产商为荷兰ASML公司，但光刻机中的零部件和技术大都来自美国，例如为光刻机提供曝光光源设备的西盟科技、计算光刻技术的睿初科技以及微激光系统的硅谷光刻集团。这些涉及到10纳米以下的技术和设备，将被拒绝出口。 不用EUV光刻机可以做出7纳米的芯片吗？一位在芯片代工行业有将近30年经验的研发人员告诉《财经》记者，如果7纳米不用EUV光刻机，成本会略高，性能上不能和台积电7纳米进阶版相比，只能和台积电的7纳米的第一个版本（使用DUV光刻机版本）相提并论。并且，除了光刻机之外，涉及到10纳米以下技术与制造的机台、物料、零部件、EDA等，也几乎卡死了。 除了设备层面，没有大设计厂商共同推进，先进制程等于没有被产品验证过。因为产品的设计会根据中芯国际的IP和器件性能去设计和验证，而国内能够承担先进制程的设计公司只有华为海思。其他设计公司很难有成本和能力承担先进制程研发。如今看来，这两个条件目前暂不具备。 截至本文发稿，中芯国际尚未对美国禁令做出公开回应。（作者为《财经》记者）
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